KURAGE online | 物質 の情報 > 半導体用高純度シリコンの収率を15%以上も改善 投稿日:2020年8月17日 物質・材料研究機構(NIMS)と筑波大学らの研究チームは、半導体用の高純度シリコンを生成するシーメンス法で、シリコンの収率を現行より15%関連キーワードはありません 続きを確認する