ルチル型酸化物半導体でデバイス動作を確認:薄膜内の貫通転位密度を大幅低減
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立命館大学と京都大学、物質・材料研究機構の研究チームは、xを0.53付近に調整したルチル型(r-)GexSn1-xO2薄膜を、r-TiO2基板上に格子整合(格子整合関連キーワードはありません
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