単純な酸化処理で層状クロム酸化物薄膜の電気抵抗が20万分の1に！ - KEK

... 物質科学研究所の組頭広志教授（高エネルギー加速器研究機構（KEK）兼務）らの研究グループは、単純な酸化処理によって室温での電気抵抗率が約20万分の１に関連キーワードはありません