窒化アルミニウムスカンジウム薄膜、強誘電性示す

不揮発性メモリへの応用に期待 東京工業大学物質理工学院材料系の舟窪浩教授と安岡慎之介大学院生らによる研究グループは2020年9月、膜厚が10nm関連キーワードはありません